半導体業界専用窒素ガス発生器（チャンバシールドガス、ドライポンプパージガス）

NITROGEN-M-100/200

LC/MS向けPeculiar 窒素ガスの流量、純度、圧力の特殊な要求は安全、高効率、便利な専用を設計した

PECULIAR(UK)INSTRUMENT TECHNOLOGY LIMITED 英国プララーテクノロジー株式会社LC/MS ちっそガス発生器は純度99.5%に達する清浄、乾燥窒素ガスを発生し、半導体業界のキャビティ保護ガスに適合し、ドライポンプによるパージガス

APCIおよびESIインタフェースを含む必要があります。窒素ガス発生器は膜分離技術を採用し、二次浄化を必要とせず、連続的に清浄、乾燥を得ることができる

乾燥、フタル酸エステルフリーの窒素、窒素の純度と流量は安定で、使用寿命は長い。外付けスクロール圧縮機により空気供給が向上

の安全性、流速範囲は0-100L/min, 窒素ガスは同時に1台以上の機器に供給することができる。特別機種はカスタマイズ可能で、最も

大流速域は200 L/min。

主な技術パラメータ |

MAIN TECHNICAL PARAMETERS

◎流量：0-100/200 L/min @100psi(7bar)

◎作業環境：5 C-40℃ しつど80%

◎使用最高標高：2200 m

◎露点：<-55℃

◎顆粒：<0.01μm

◎滞留液体：なし

◎フタル酸：なし

◎ノイズ：<47 dB（A）

◎電源投入精製時間：30 min

◎パワー：8000 W

◎電力要求：220 V 50Hz